喜開理,CKD真空閥RM3000-8-W-B3W

壓力（B→A） MPa 0~0.5
閥座泄漏cm3/min 0 (水壓時)
背壓MPa 0~0.5
環境溫度°C 0~60
頻率30/分以下
安裝方式自由
比原有產品Part 3系列壓力范圍更大。
控制壓力通用，A、B 口的壓力通用化了。
本品是在半導體線中，為控制真空室內的真空壓力而設計的系統。
●各種CVD裝置 ●實驗·研究用途（真空壓力控制）

前請確認產品構成材料與流體及周邊環境是否適用。
注2 ：氫氟酸或者含有氫氟酸的化學液體時，
請在5~80°C范圍內。
如果連接方式為F-LOCK60系列配件，溫度范圍變為5~100°C。
Cv值是溫度為23°C時的值。
流體純水、化學液體、空氣、氮氣（注1）
流體溫度°C 5~120 （注2、注3）
耐壓MPa 1.0
壓力（A→B） MPa 0~0.5
在半導體以及LCD制造的清潔化學液體（包括純水）的設備
內，用于控制化學液體壓力的減壓閥
■對異物非常敏感的內置型過濾器
■流量、壓力特性優良，安裝簡單
■優良的耐腐蝕性
接液部位氟樹脂（PFA、PTFE）和SUS316，可發揮優良的耐腐蝕性
喜開理,CKD真空閥RM3000-8-W-B3W